發(fā)布時(shí)間： 2017-10-20 點(diǎn)擊次數(shù)： 1777次
Harrick等離子清洗機(jī)采用電感耦合高密度等離子體(ICP)，能快速去除晶圓上之殘留光阻(光刻膠)，達(dá)到晶圓表面潔凈，Harrick等離子清洗機(jī)具有蝕刻率高，無電極污染，離子能量低，不損傷基板等優(yōu)點(diǎn)。
Harrick等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)組成，主要都是由兩個(gè)部分組成：
一是，等離子發(fā)生器，該部分由集成電路、運(yùn)行控制、等離子發(fā)生電源、氣源處理、安全防護(hù)等組成。
二是，等離子處理裝置，該部分由激發(fā)電極、激發(fā)氣路等組成。
Harrick等離子清洗機(jī)預(yù)處理工藝的優(yōu)點(diǎn)：
１、表面活化非常有效而且均勻，所處理的表面上不會(huì)有熱量累積。
２、無外殼變形
３、可降低壁厚，節(jié)省了材料
４、可以處理整個(gè)粘接面，包括膠槽底部和側(cè)壁
５、整個(gè)接合表面的預(yù)處理，包括凹槽的根部和側(cè)壁
Harrick等離子清洗機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場(chǎng)，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也愈來愈長(zhǎng)，受電場(chǎng)作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這時(shí)會(huì)發(fā)出輝光，故稱為輝光放電處理。 輝光放電時(shí)的氣壓大小對(duì)材料處理效果有很大，影響另外與放電功率，氣體成分及流動(dòng)速度、材料類型等因素有關(guān)。
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