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  • Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機
    Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機

    Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機由OAI設計與制造 在半導體行業,OAI 擁有 40 余年產品研發和制造經驗,以專為研發及半自動生產設計的光刻設備,應對動態市場日益增長的挑戰。800E 型基于經實踐驗證的 OAI 模塊化平臺打造,是一套增強型、高性能、高分辨率光刻系統,在該價格段性能好。對準器搭載 OAI 優良光束光學技術,均勻性佳。

    更新時間:2025-07-04型號:瀏覽量:323
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