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  • Post-CMP Cleans
    Post-CMP Cleans

    光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Post-CMP Cleans是一款由杜邦研發與生產的清洗劑,PCMP清洗劑適用于前端工藝(FEOL)中的氧化鈰、多晶硅、二氧化硅材料,中端工藝(MEOL)中的鎢材料,以及后端工藝(BEOL)中的銅材料制程

    更新時間:2025-06-27型號:瀏覽量:395
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