簡要描述：KLA Zeta™-20光學輪廓儀是一個高度集成的光學輪廓顯微鏡，可在緊湊、耐用的包裝下提供3D量測和成像功能。該系統采用ZDot™ 技術，可同時收集高分辨率3D形貌信息和樣品表面真彩色圖像。Zeta-20 3D顯微鏡支持研發和生產環境，具有多模光學器件、易于使用的軟件和性價比高等優勢。Zeta-20HR 提供專業的太陽能電池量測解決方案。
產品型號：
所屬分類：光學輪廓儀
更新時間：2025-03-07
廠商性質：生產廠家
KLA Zeta™-20光學輪廓儀是一款非接觸式3D顯微鏡及表面形貌測量系統。該 3D 光學量測系統由 ZDot 技術及多模式光學組件提供支持，可支持各種樣品測量：透明和不透明、低反射率和高反射率、光滑表面和粗糙紋理，以及從納米到厘米范圍的臺階高度。
KLA Zeta™-20光學輪廓儀集六種不同的光學量測技術于一身，是一款可靈活配置且易于使用的系統。ZDot測量模式同時收集高分辨率的3D掃描信息和樣品表面真彩色圖像。其他3D測量技術包括白光干涉測量法、諾馬斯基光干涉對比顯微法和剪切干涉測量法，膜厚測量包含使用ZDot模式測量和光譜反射的測量方法。Zeta-20 也是一款顯微鏡，可用于抽樣檢查或缺陷的自動檢測。Zeta-20通過提供全面的臺階高度、粗糙度及薄膜厚度測量以及缺陷檢測功能來支持研發 (R&D) 和生產環境。
配合ZDot及多模式光學組件，光學輪廓儀可以容易地實現各種各樣的應用
用于抽樣檢查和缺陷檢測的高質量顯微鏡
ZDot: 同時收集高分辨率的3D掃描掃描信息和樣品表面真彩色圖像
ZXI：采用z方向高分辨率的廣域測量白光干涉儀 ZIC：亞納米級粗糙度表面的定量3D數據的干涉對比
ZIC：圖像對比度增強，可實現亞納米級粗糙度表面的定量分析
ZSI：z方向高分辨率
圖像的剪切干涉測量法
ZFT：通過集成式寬頻反射測量法測量薄膜厚度和反射率
AOI：自動光學檢測，可量化樣品缺陷
生產能力：具有多點量測和圖形識別功能的全自動測量
臺階高度：從納米級到毫米級的3D 臺階高度
表面：光滑表面到粗糙表面上的粗糙度和波紋度測試
翹曲：2D或3D翹曲
應力：2D 或3D 薄膜應力
薄膜厚度：透明薄膜厚度由 30nm 至 100µm 不等
缺陷檢測：捕獲大于 1µm 的缺陷
缺陷表征：KLARF文件可用于尋找缺陷，以確定劃痕缺陷位置，測量缺陷3D表面形貌
太陽能：光伏太陽能電池
半導體和化合物半導體
半導體WLCSP（晶圓級芯片封裝）
半導體FOWLP（扇出晶圓級封裝）
PCB（印刷電路板）和柔性印刷電路板
MEMS：微機電系統
醫療器械和微流體器件
數據存儲
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