薄膜沉積系統

簡要描述：Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統可以在緊湊的平臺上生產高品質的薄膜。*的反應器設計可以在在極低的功率生產具有優異臺階覆蓋的低應力薄膜。該系統可以滿足實驗室和中試生產環境中的所有安全，設施和工藝標準要求。

產品型號： Trion Orion III PECVD

所屬分類：PECVD沉積

更新時間：2025-08-14

廠商性質：生產廠家

留言詢價 87978797威尼斯

詳情介紹

Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統可以在緊湊的平臺上生產高品質的薄膜。反應器設計可以在在極低的功率生產具有優異臺階覆蓋的低應力薄膜。該系統可以滿足實驗室和中試生產環境中的所有安全，設施和工藝標準要求。

具有許多標準的需求功能，而且是這樣一個如此合理價格，這就是為什么許多世界各地的用戶已經作出了Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統的選擇。

特征：

沉積薄膜：氧化物、氮化物、氧氮化物，非晶硅。

工藝氣體：＜20%硅烷、氨氣、正硅酸乙酯、二乙基硅烷、氧化亞.氮、氧、氮。

應用：

MEMS, 固態照明，失效分析，研發，試驗線.

薄膜沉積系統

客戶留言：

“相比較實驗室的其他設備，我發現該設備（Orion III PECVD薄膜沉積系統和 Phantom RIE 刻蝕系統）是非常強大的。"–Lee M. Fischer，國家納米技術研究所，艾伯塔大學

“I’ve found both machines (Orion PECVD and Phantom RIE) to be quite robust, indestructible by comparison to some other lab equipment." – Lee M. Fischer, National Institute for Nanotechnology, University of Alberta。

上一篇：HMS-3300高溫霍爾效應測試儀

下一篇：Minilock-Orion III PECVDPECVD沉積

中國·87978797威尼斯(股份)有限公司-官方網站

薄膜沉積系統

留言框

產品：

您的單位：

您的姓名：

聯系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細地址：

補充說明：

驗證碼：